Bij de productie van halfgeleiderwafers is het lithografieproces een cruciale, precisiegedreven stap die de chipopbrengst bepaalt. Als de "kern van belichting en beeldvorming" in het waferfabricageproces omvat lithografie de gehele workflow – inclusief spincoating, belichting, ontwikkeling, etsen en natte reiniging – en stelt het extreem strenge eisen aan de omgevingsreinheid, beheersing van onzuiverheden, elektrostatische bescherming en chemische bestendigheid. Stofdeeltjes op micronniveau, sporen van ionenmigratie en tijdelijke elektrostatische ontladingen kunnen allemaal direct leiden tot defecten in de fotolak, verkeerde uitlijning van patronen, waferoxidatie en microkortsluitingen in circuits, met als gevolg het afkeuren van complete wafers en enorme productieverliezen. Veel fabrieken worstelen om de opbrengst van hun fotolithografieprocessen te verbeteren. Zelfs wanneer apparatuur, processen en omgevingsparameters allemaal in orde zijn, ligt het knelpunt vaak in ogenschijnlijk onbeduidende verbruiksartikelen voor handbescherming. Gewone cleanroomhandschoenen van klasse 1000 of industriële cleanroomhandschoenen zijn volstrekt ongeschikt voor de ultrahoge eisen van het fotolithografieproces.
Waarom is het gebruik van gewone cleanroomhandschoenen strikt verboden bij het lithografieproces?
Poederresten veroorzaken verontreiniging van de fotolak.
Overmatige hoeveelheden zwavel- en chloride-ionen veroorzaken corrosie van de circuits op de wafers.
Statische elektriciteit raakte buiten controle, waardoor een precisie-fotolithografie-wafer defect raakte.
Afschilfering en loslaten, wat leidt tot defecten door vreemde materialen in het productieproces.
LjieClean Klasse 100 poedervrije nitrilhandschoenen
Suzhou Leader richt zich op de productie van halfgeleiderwafels en pakt knelpunten in het lithografieproces aan. We hebben gespecialiseerde, poedervrije nitrilhandschoenen van klasse 100 ontwikkeld met een lage ontgassing, die perfect voldoen aan de productie-eisen van het gehele waferlithografieproces. Hierdoor zijn ze de favoriete beschermende verbruiksartikelen voor talloze fabrieken en bedrijven die zich bezighouden met waferverpakking en -testen.
1. Proces zonder poeder op basis van dichloride: geen poederverontreiniging in het fotolithografieproces
Deze methode maakt gebruik van een specifiek voor halfgeleiders ontwikkeld chloreringsproces en vereist geen toevoeging van hulpstoffen zoals talk, maïszetmeel of siliconenolie gedurende het hele proces. Het garandeert een soepele applicatie tijdens het proces zelf, waarbij poederdeeltjes en siliconenolieresten die de fotolak verontreinigen, al bij de bron worden verwijderd. Hierdoor worden defecten door vreemde deeltjes in het fotolithografieproces volledig opgelost.
2. Meertraps spoelen met ultrazuiver water zorgt voor een laag zwavel-, chloor- en ionengehalte.
Door meerdere spoelcycli met zeer zuiver water worden additieven en oppervlakteresten verwijderd. Het gehalte aan zwavel, chloor en oplosbare metaalionen wordt strikt gecontroleerd, wat resulteert in een lage NVR (niet-vluchtige residuen). Dit voorkomt oxidatie van de wafer, corrosie van de coating en etsfouten, waardoor de handschoenen volledig geschikt zijn voor de veeleisende lithografieprocessen voor 8- en 12-inch wafers.
3. In-mold gemodificeerde ESD-bescherming ter bescherming van elektrostatisch gevoelige wafers
In tegenstelling tot commercieel verkrijgbare antistatische handschoenen met tijdelijke spuitcoating, maakt Gonars gebruik van een in-mold antistatische modificatietechnologie op een nitrilbasismateriaal. Dit garandeert een stabiele en uniforme oppervlakteweerstand, waardoor statische elektriciteit gedurende het hele proces continu wordt afgevoerd. Dit voorkomt statische opbouw die kan leiden tot afbraak van fotolak en schade aan precisiecircuits in wafers. De handschoenen zijn geschikt voor essentiële lithografiestappen zoals belichting en ontwikkeling.
4. Flexibele en nauwsluitende pasvorm, geschikt voor precisiewerkzaamheden op micronniveau.
Het materiaal van de handschoen is flexibel en past zich aan de contouren van de hand aan. Dankzij het antislip-textuurontwerp op de vingertoppen is de handschoen licht en compact, waardoor hij ideaal is voor precisiewerkzaamheden zoals het hanteren van fotolithografie-wafers, het debuggen van apparatuur en precisie-inspecties. De handschoen biedt onbelemmerde beweging en voorkomt uitglijden, waardoor schade door onbedoelde stoten tijdens handmatige werkzaamheden effectief wordt geminimaliseerd. Bovendien is de handschoen bestand tegen fotolithografie-oplosmiddelen en milde zuren en basen, en blijft hij duurzaam zonder te verouderen of te scheuren, zelfs bij langdurig gebruik.
5
✅ Dubbellaagse vacuümverpakking voorkomt secundaire besmetting
De eindproducten worden gedurende het gehele proces verpakt in een cleanroom van klasse 100 met behulp van dubbellaags vacuümverpakking. Deze verpakking isoleert de producten volledig van stof en vocht tijdens opslag en transport. Er is geen sprake van secundaire besmetting bij het openen van de verpakking, waardoor de producten direct kunnen worden gebruikt in cleanrooms van klasse 100 voor lithografie.
Geplaatst op: 23 juli 2026